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净化工程洁净室温湿度控制净化工程洁净空间的温度和湿度主要是根据工艺要求来确定的，但在满足工艺要求的条件下，也要考虑到舒适度。随着空气洁净度要求的提高，对温度和湿度的要求也有越来越严格的趋势。具体工艺对温度的要求后面会列出，但作为一般原理，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，玻璃与作为掩模材料的硅片之间的热膨胀系数差要求越来越小。

另外，当湿度过高时，粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面，难以清理。相对湿度越高，去除附着越困难。而当相对湿度低于30％时，由于静电力的作用，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易击穿。

净化工程压力调节

对于大多数洁净空间来说，要保持内压（静压）高于外压（静压），以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:

净化工程的优点就是构件成本比较低，而且洁净室想要扩展也很容易。在一些特殊用途的场合，可以使用这个无尘工作台来提高整体的等级。当这个微尘粒子漂浮在室内空间的时候是不容易排出的，容易造成一个污染过程，但是这是早一点都能够被整改，而且大部分都是优点，这一点就没有什么了。

让产品在一个良好的环境当中生产和制造，比如说设计的过程，就是净化工程的全部意义。

那么如果你采用一个有效或有效的方式的话，我觉得这个结果是很容易实现。把整个空间范围之内的污染物去排除掉，这也是一个主要。

除此之外净化工程还应该挑战一下这个温度，以及噪音等一些无形的污染，这些都行，都是要完成的工作。净化在一定的程度之内，把空气里面的微粒子有害的细菌气体全部都给清除掉，并且把空气压力的速度都控制在某一个范围之内的工程学科。