随着技术的发展，PVD技术也不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术
磁控溅射技术
磁控溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。
水电镀法:
工艺关键词:阳极溶解、阴极附着、电化学反应
水电镀法主要应用于打造高反射镜效果、增加附着层等，其优点是可镀大面积，成本低，缺点是电解液毒性高，工业污染大。
阳极氧化法:
工艺关键词:金属氧化成膜、电化学反应
阳极氧化亦可做成Ta2O2、TiO2、ZrO2、Nb2O5、HfO2、WO3等，主要用作保护膜或着色装饰膜
不锈钢PVD电镀是制作不锈钢产品过程中的其中一个环节，这个环节可以在产品制作中途或者z后的一道工序中进行，用于改变表面外观颜色，这是一种允许在基板上创建一层PVD金属镀层的过程。
这种不锈钢PVD电镀的过程也称为“真空沉积”，真空电镀厂的工艺，它是涉及加热金属涂层材料直至其在真空室内蒸发。这个腔室内的压力不足会使金属的沸点向下。这允许金属蒸汽冷凝并在您选择的基板顶部上形成层。例如，半导体工业使用真空沉积在硅上沉积互连。